Спеченная нержавеющая сталь

Кроме того, для полупроводниковых применений, связанных с коррозионными специальными газами, этот продукт-благодаря своей превосходной устойчивости к галогенам, кислотам и щелочам-может стабильно работать в течение длительного времени в газовых средах на основе фтора- и хлора-, не подвергаясь коррозии со стороны среды и не образуя вторичных примесей. По сравнению с органическими фильтрующими материалами, такими как ПТФЭ и стекловолокно, его высокая-температурная стойкость, стойкость к старению и не-нелетучие свойства делают его идеально подходящим для высоко-газовых процессов, полностью решая общеотраслевую-проблему газового загрязнения, вызванную высоко-разложением органических материалов.

Во время непрерывной работы на заводе суспензия ХМП не является статической системой, а постоянно подвергается циркуляции, сдвигу, изменениям давления и химическим реакциям. Во время этого процесса наночастицы могут постепенно агрегировать из-за сил Ван-дер-Ваальса, эффектов электростатического экранирования или изменений в химической среде, образуя большие агломераты, намного большие, чем исходные частицы. Факторы, влияющие на образование агломераций, включают сдвиг на высокой-скорости циркуляционным насосом, приводящий к локальному разрушению диспергатора; длительное время хранения суспензии, приводящее к снижению коллоидной стабильности; изменения температуры, изменяющие поверхностный заряд частиц; повышенная концентрация ионов металлов в суспензии, сжимающая двойной электрический слой и вызывающая агрегацию частиц; и воздух, попадающий в систему циркуляции, образует микропузырьки, способствуя слипанию частиц.

Традиционные полимерные мембраны в основном полагаются на двумерные мембранные структуры для удержания поверхности. Во время фильтрации частицы имеют тенденцию скапливаться на поверхности мембраны, образуя слой осадка, что приводит к быстрому увеличению перепада давления. Напротив, титаны NAVIспеченная нержавеющая стальиспользует трехмерную-взаимосвязанную микропористую структуру. Его внутренние каналы соединены между собой, что позволяет частицам не только удерживаться на поверхности, но и постепенно распределяться по глубине канала, обеспечивая типичную глубинную фильтрацию. Этот метод фильтрации имеет несколько существенных преимуществ. Во-первых, нано-суспензия течет равномерно по всей сети пор, предотвращая образование локальных-зон размыва с высокой скоростью и уменьшая абразивный износ фильтрующего материала. Во-вторых, более крупные агломерированные частицы предпочтительно удерживаются на входах каналов, в то время как обычные наночастицы могут проходить сквозь них плавно, таким образом не изменяя существенного распределения частиц суспензии по размерам.

Медный CMP является ключевым этапом в процессе Damascene (дамасской связи). Его цель — удалить медное покрытие, сохраняя при этом медное заполнение канавок и переходных отверстий. Из-за высокой пластичности и низкой твердости меди она чувствительна к локализованному механическому напряжению во время ХМП, что делает состояние частиц суспензии особенно важным для стабильности процесса. В суспензиях медного CMP обычно используется коллоидный диоксид кремния в качестве основного абразива с размером частиц, обычно контролируемого от 30 до 80 нм, и дополняются химическими добавками, такими как перекись водорода и бензотриазол (БТА), для регулирования окисления и ингибирования коррозии на поверхности меди. Основная задача фильтров из спеченной нержавеющей стали в медных CMP — удалять аномальные частицы, размер которых в несколько раз превышает нормальный размер абразивных частиц, а не перехватывать все частицы.

Вольфрам CMP в основном используется для обработки вольфрамовых штекеров в контактных разъемах и плоских межсоединениях. По сравнению с медью вольфрам тверже, и процесс удаления в основном основан на сочетании химического окисления и механического шлифования. Поэтому в суспензию обычно добавляют окислители и абразивы высокой-твердости. Вольфрамовые фильтры CMP должны выдерживать значительно более высокие уровни истирания. Поскольку абразивная режущая способность суспензии выше, обычные полимерные фильтрующие материалы склонны к расширению пор или износу мембраны после длительной-эксплуатации. Однако этот продукт имеет цельный спеченный металлический каркас, способный выдерживать непрерывную-очистку на высокой скорости и сохранять точность фильтрации в течение длительного периода. Вольфрамовый ХМП очень чувствителен к металлическим примесям.

STI (изоляция неглубокой траншеи) CMP в основном используется для удаления оксида кремния после заполнения траншеи, обеспечивая электрическую изоляцию между транзисторами. Поскольку STI напрямую влияет на последующее формирование ворот, требования к качеству его планаризации чрезвычайно высоки. В суспензиях STI в качестве основного абразива обычно используется нано-оксид церия (CeO₂). Его частицы обладают высокой химической активностью и могут синергетически реагировать с поверхностью кремнезема, повышая эффективность полировки. Характерной особенностью суспензий оксида церия является то, что частицы имеют сильный поверхностный заряд, что делает их склонными к агломерации из-за изменений pH или концентрации ионов.